【研究開発成果】真空機器用高耐食アルマイト皮膜の開発

2017年9月11日

山口県産業技術センターの研究開発による新たな成果事例をお知らせします。

 

研究開発成果事例:真空機器用高耐食アルマイト皮膜の開発

 

研究の概要: 半導体製造装置の真空機器部材には、アルマイト皮膜(アルミニウム合金の表面を

陽極酸化処理したもの)を施したアルミ合金が用いられており、低いガス放出特性、

耐食性、耐プラズマ性が求められています。封孔処理過程でアルマイト皮膜に形成さ

れる水和酸化物に着目し、緻密な水和酸化物を厚く形成させた高耐食性アルマイト皮

膜(カワマイト)の開発を行いました。

 

 

下のPDFファイルをクリックして内容をご確認ください。

 

真空機器用高耐食アルマイト皮膜の開発.pdf(206KBytes)