蛍光X線分析装置(EDXRF)(けいこうえっくすせんぶんせきそうち(いーでぃー)

用途

試料中の金属成分を短時間で分析
試料の前処理はほとんど必要がなく、サイズの小さな試料も分析可能
元素のマッピング測定、薄膜の膜厚測定なども可能
主に以下の用途で利用することができます。
1.製品中のRoHs指令元素の測定
2.破損原因の調査
3.材質の判定

仕様

X管球:ロジウム、タングステン
試料室雰囲気:大気または真空
試料室サイズ:600×350×260mm(WDH)
マッピング範囲:200×150mm
X線照射径:25μm

メーカー

Bruker AXS K.K.

型式

AXS M4 TORNADE-YS

機器分類

無機分析

利用区分

料金

1010円/時間

設置年度

平成23年度