高精度研磨装置(こうせいどけんまそうち)

用途

試料表面を高精度に研磨加工する装置
主に薄膜電子デバイスに用いる基板材料(セラミックス、ガラス、単結晶)の表面研磨に用いる

仕様

ラップ圧力:100g/cm2以上
砕石、ラップ可変式(無断変速)
左右ストローク:180~200mm

メーカー

(株)ナノファクター

型式

FACT-200

機器分類

機械加工

利用区分

料金

540円/時間

設置年度

平成8年度