高精度研磨装置(こうせいどけんまそうち)
用途
試料表面を高精度に研磨加工する装置
主に薄膜電子デバイスに用いる基板材料(セラミックス、ガラス、単結晶)の表面研磨に用いる
仕様
ラップ圧力:100g/cm2以上
砕石、ラップ可変式(無断変速)
左右ストローク:180~200mm
メーカー
(株)ナノファクター
型式
FACT-200
機器分類
機械加工
利用区分
料金
540円/時間
設置年度
平成8年度
試料表面を高精度に研磨加工する装置
主に薄膜電子デバイスに用いる基板材料(セラミックス、ガラス、単結晶)の表面研磨に用いる
ラップ圧力:100g/cm2以上
砕石、ラップ可変式(無断変速)
左右ストローク:180~200mm
(株)ナノファクター
FACT-200
機械加工
540円/時間
平成8年度