スパッタリング装置（すぱったりんぐそうち）

用途

金属やセラミック膜を真空中で試料表面に形成する装置
本装置は、コンピュータ制御により多層膜、傾斜膜が自動的に形成可能

仕様

3源マグネトロンスパッタ源(500W)
基板冷却加熱回転機構(300℃常用)
ELディスプレイ付き

メーカー

神港精機（株）

型式

SRV4311

機器分類

材料表面処理

利用区分

料金

12360円／日

設置年度

平成10年度