公開日 2017年09月11日
山口県産業技術センターの研究開発による新たな成果事例をお知らせします。
研究開発成果事例：真空機器用高耐食アルマイト皮膜の開発
研究の概要： 半導体製造装置の真空機器部材には、アルマイト皮膜（アルミニウム合金の表面を
陽極酸化処理したもの）を施したアルミ合金が用いられており、低いガス放出特性、
耐食性、耐プラズマ性が求められています。封孔処理過程でアルマイト皮膜に形成さ
れる水和酸化物に着目し、緻密な水和酸化物を厚く形成させた高耐食性アルマイト皮
膜（カワマイト）の開発を行いました。
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