公開日 2020年07月01日
経済産業省所管の競争的資金について、産業技術センターを事業管理機関とし、県内企業が提案した技術開発事業が採択されましたので、お知らせします。
１ 採 択 事 業
| 計 画 名 | 期 間 |
◎事業管理機関 〇主たる研究等実施機関 |
| 独自のシリコン単結晶接合技術による半導体ドライエッチング装置用大型シリコン電極の低コスト製造技術の研究開発 |
令和２年度 ～ 令和４年度
|
◎:産業技術センター 〇:日本新工芯技(株)（光市） |
２ 事 業 内 容
スマートフォンの高機能化及び出荷増により、使用される半導体メモリ(NANDフラッシュ)を加工するドライエッチング装置の需要が高まっている。
併せて、半導体メモリの高性能化に伴い、当該装置の主要部品であるシリコン電極の大型化が課題となっている。
本事業では、独自のシリコン単結晶接合技術を用いて、従来と比べ大幅なコスト低減が可能な大型シリコン電極の開発に取り組む。
《本年度の全国の採択状況》
採択：１０２件（提案：３２６件、倍率３．２倍）
《本県の過去５年の採択状況》
Ｈ２８：１件、Ｈ２９：１件、Ｒ元：１件
【参考】戦略的基盤技術高度化支援事業（通称：サポイン）の概要
〇対 象：「中小企業のものづくり基盤技術の高度化に関する法律」に基づき経済産業大臣が定める
「特定ものづくり基盤技術高度化指針」に記載された内容に関する研究開発等を国が補助
〇事業期間：２年又は３年（年度単位）
〇補助金額：単年４，５００万円以下
２年の合計で、７，５００万円以下
３年の合計で、９，７５０万円以下
〇補助率：大学・公設試等 定額
上記以外 ２／３以内
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産学公連携室