蛍光X線分析装置(EDXRF)(けいこうえっくすせんぶんせきそうち(いーでぃー)
用途
試料中の金属成分を短時間で分析
試料の前処理はほとんど必要がなく、サイズの小さな試料も分析可能
元素のマッピング測定、薄膜の膜厚測定なども可能
仕様
X管球:ロジウム、タングステン
測定可能元素:Na~U
試料室雰囲気:大気または真空
試料室サイズ:600×350×260mm(WDH)
マッピング範囲:200×150mm
X線照射径:25μm
メーカー
Bruker AXS K.K.
型式
AXS M4 TORNADE-YS
機器分類
無機分析
利用区分
料金
1010円/時間
設置年度
平成23年度